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脉冲激光束沉积(PLD)
发布日期 :2022-01-11 浏览次数: 725

 

参数指标


FEATURE

DETAILS

Substrate

double-side    2'' diameter standard     3'' and 4'' on request

PLD Chamber size

18'' diameter Spherical chamber standard (Adjustable on request)

Base vaccum

5.0×10-8  Torr standard (at room temperature)

 

Standard armored heater

≤900°C

Substrate Heating

Advanced armored heater

≤1100°C

 

SiC heater

≤1600°C

Nd:YAG Laser (Made in China)

Selectable wavelength including 266, 355, 532 and 1064 nm

Maximum Scanning Range

60mm(Available to prepare 4’’ film)

Process gases

 O2, N2, Ar

Annealing Pressure

 ≤ 1 atm

Target Carousel

3×2'' diameter standard   >3×2'' on request

Automation

Open-source Control System based on LabVIEW

 

产品特点


“大尺寸”旋转辐照加热器

非接触辐照加热,可翻转制备双面薄膜
炉丝密集排布提高加热荷载
耐受1个大气压强以下的纯氧退火气氛

 

 

扫描溅射实现“大尺寸”薄膜沉积

极简化的“直线光路”,损耗最低
激光组件整体移动扫描,保证一致性和稳定性
三束激光共同溅射沉积,提高效率
完全开源的软硬件自动化控制系统,支持扫描补偿

 

 

产品应用-薄膜制备


SrTiO3 标准参考样品(2英寸)

 

SrTiO3 (STO) Film on LaAlO3 substrate

          

Surface Roughness

0.366 nm (RMS)

FWHM

0.069°

Distribution

Thickness   ±0.9%

Lattice Constant   ±0.08%

Growth Speed

6.7 nm/min

 

 

 

YBa2Cu3O7-x 大尺寸薄膜质量(2英寸)

 

            

YBa2Cu3O7-x  (YBCO) Film on LaAlO3 substrate

Microwave Surface Resistance

<0.24 mΩ         @77 K @10 GHz

Critical Current Density

~ 3.0 MA/cm2 @77 K

Surface Roughness

9.66 nm (RMS)

Distribution

Thickness   ±0.46%

Growth Speed

 13 nm/min

 

 

冯中沛 杨景婷
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